对于许多工业和半导体加工过程，性能和成本效率同样重要。GF80 系列金属密封质量流量控制器拥有以下两个特点：设计采用与 GF100 系列响应速度相同的传感器以及第四代 MultiFlo™ 技术，该产品是性价比运营的正确选择。另外，金属密封的 MFC 拥有 MultiFloTM 多气体/多量程功能所带来的优势，原因是可用气体方面没有限制并且由于不会发生弹性体氧渗透而提升了气体纯度，同时还由于金属密封件有效期相当长而减少了维护工作量。

特点

• 长期零点稳定性，每年变动小于满量程的 ± 0.5%
• 1 秒内稳定
• 满量程流速高达 300 slpm
• 全金属密封流路 – 16µ 英寸 Ra 表面处理
• 耐腐蚀 Hastelloy® 传感器可在较低温度下工作，适用于易发生热分解的气体
• 可编程 MultiFloTM 功能 – 一台设备即可满足数千种气体类型和各种量程组合的需求，无需从气路上拆除 MFC 并且不影响精度
• 通过有源温度补偿实现的一流温度系数规范
• 内嵌式常规自检功能和独立的诊断/维护端口
• 带有 VCR 配件的细线体设计
• DeviceNetTM、Profibus®、RS-485 和模拟接口

优势

• 1 秒完成流量稳定，消除废气和过程变量影响
• 未采用会发生氧渗透并且使用一定时间之后需要进行更换的弹性体密封件
• MultiFloTM 精简了过程气体切换操作 — 无需再拆除并重新校准 MFC
• 60 秒内即可完成新气体和/或量程的设定操作
• 测量精度不受温度变化影响
• 可轻松访问诊断端口以实现运行时间
• 规格紧凑，可轻松集成至紧张的设备空间内；设备改型的选择
• 多协议通信接口可简化向现有系统的集成操作

应用

• 对翻新后的半导体加工工具中的原有 MFC 进行经济高效的改型/升级
• 减少六英寸/八英寸半导体工厂的 MFC 库存
• 用于 LED 和功率器件生产的 MOCVD
• 太阳能/薄膜化学气相沉积 (CVD) 系统
• 分析用 OEM 设备